
Normal yük veya kısa devre akımının değiştirilmesi sırasında, SF₆ molekülleri ark tarafından iyonize ve parçalanır. Şekilde, her bir sürecin muhtemelen gerçekleşeceği ana reaksiyon süreçleri ve yerler gösterilmektedir. Elektrik boşalmasından kaynaklanan asıl ayrışma ürünü olan SF₄, önce kaplama iç duvar yüzeyinde H₂O ile reaksiyona girerek SOF₂'yi oluşturur. Metal florürleri, toz veya toz haliyle yüzeyde kalır. Bu reaksiyonda H₂O salınır ve bu nedenle SF₄ ile daha fazla reaksiyonlar için ya da SOF₂'nin SO₂'ye çok daha yavaş dönüşümü için kullanılabilir hale gelir. Aslında, bu süreçte H₂O tüketilmez, aksine katalizör olarak görev yapar. İlgili faktörler şunlardır: