| Márka | Wone |
| Modell szám | 580-605 Wátter egyoldalú modul TOPcon (Tunnel Oxide Passivating Contacts) technológiával |
| Maximális teljesítmény | 605Wp |
| Sorozat | 72HL4-(V) |
Tanúsítványok
IEC61215:2021 / IEC61730:2023 ·
IEC61701 / IEC62716 / IEC60068 / IEC62804 ·
ISO9001:2015: Minőségmenedzsment-rendszer ·
ISO14001:2015: Környezetvédelmi menedzsment-rendszer ·
ISO45001:2018: Munkahelyi egészség- és biztonsági menedzsment-rendszer.
Jellemzők
Az N-típusú modulok Tunnel Oxide Passivating Contacts (TOPcon) technológiával kisebb LID/LeTID romlást és jobb alacsony fényképességű teljesítményt nyújtanak.
Az N-típusú modulok JinkoSolar HOT 3.0 technológiával jobb megbízhatóságot és hatékonyságot nyújtanak.
Magas sóhajtás- és ammónia-ellenállóság.
Tanúsított ellenállás: 5400 Pa előlap maximális statikus terhelés, 2400 Pa hátlap maximális statikus terhelés.
Jobb fényfogás és áramgyűjtés a modul teljesítményének és megbízhatóságának javítása érdekében.
A PID jelenség által okozott romlás esélyének minimalizálása a cellatervezés optimalizálásával és anyagfelügyelettel.
Mechanikai jellemzők
Csomagolási konfiguráció
Specifikációk (STC)
Alkalmazási feltételek
Műszaki rajzok
*Megjegyzés: A pontos méretek és toleranciakörökért látogasson el a megfelelő részletes modulrajzokhoz.
Elektromos teljesítmény
Mi az a TOPCon technológia?
A TOPCon technológia (Tunnel Oxide Passivated Contact) egy fejlett fotovoltaikus cellatechnológia, amely a napelemekek napfényt villamos energiára való átalakító hatékonyságának javítására szolgál. A TOPCon technológia lényege, hogy a cella hátlapján bevezeti a túneloxidréteget és a dopált poliszilíciumréteget, ami egy passzivált kapcsolati struktúrát hoz létre. Ez a struktúra csökkenti a felületi és a fémkapcsolati rekombinációt, így javítva a cella teljesítményét.
Túneloxidréteg: Az ultra-vékony túneloxidréteg a cella hátlapján készül. Ez a réteg olyan vékony, hogy elektronok tudnak túnelözni rajta, de elegendően vastag ahhoz, hogy csökkentse a felületi rekombinációs veszteségeket.
Dopált poliszilíciumréteg: A túneloxidrétegen egy dopált poliszilíciumréteg kerül. Ez a réteg lehet N-típusú vagy P-típusú, és a töltéscarrier gyűjtésére szolgál.
Paszivált kapcsolat: A túneloxidréteg és a dopált poliszilíciumréteg által alkotott paszivált kapcsolati struktúra hatékonyan csökkenti a felületi és a fémkapcsolati rekombinációt, így növelve a cella nyitott körzetes feszültségét és rövidzárló áramát.
